[搜链快讯]台积电:5nm明年量产,2nm已进入先导规划
发布于 4 个月前 作者 HebeBlock 53 次浏览 来自 快讯

2019-11-04 10:27:16

在近日的台积电33周年庆典上,董事长、联席CEO刘德音谈到了台积电的先进工艺规划,最先进的2nm工艺也进入了先导规划中,明年则会量产5nm工艺。刘德音强调,台积电先进制程7nm在台中晶圆十五厂运作近两年,首次以极紫外光(EUV)应用的7nm强化版制程技术,今年六月开始大量生产,有很好良率表现。台积电最新的5nm制程已准备就绪,过去一年多,在竹科晶圆十二厂和台南晶圆十八厂,投注大量时间和心力,明年可望接续7nm脚步,可望创造又一个半导体技术里程碑。根据台积电之前的规划,2nm工艺是一个重要节点,Metal Track ( 金属单元高度 ) 和3nm一样维持在5x,同时Gate Pitch(晶体管栅极间距)缩小到30nm,Metal Pitch(金属间距)缩小到20nm,相比于3nm都小了 23%。预计2nm工艺将在2024年完成,正式进入量产阶段,不过具体情况现在还不得而知。(TechWeb)

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